2026年7月23日，国务院总理李强签署第842号国务院令，公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》（以下简称《条例》），自2026年10月15日起施行。这是《条例》自2001年公布施行以来25年间的首次全面修订，条例由原来的40条扩展至6章54条。
随着国内规模以上集成电路设计企业超过3800家，同赛道产品竞争密度急剧上升。新《条例》的施行，为芯片设计企业的核心资产保护提供了更完善的法律武器。对于芯片设计企业而言，现在正是完成布图设计登记布局的关键窗口期！
一、什么是集成电路布图设计？
根据《条例》第三条，集成电路布图设计是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。
布图设计权是芯片行业特有的知识产权形式。与专利保护技术方案的功能实现不同，布图设计权保护的是具体的布线结构。专利法要求发明创造具备创造性、新颖性和实用性，而集成电路布图设计往往难以满足这些条件，因此通过单行立法予以保护。
布图设计专有权经国家知识产权局登记产生，未经登记的布图设计不受《条例》保护。
二、新《条例》六大核心变化
变化一：保护范围扩展至集成光子、量子芯片
新《条例》第三条明确规定：对集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计，可以依照本条例的规定予以保护。
当前，传统集成电路晶体管制程已趋近工艺与物理边界，光子、量子等颠覆性技术不断涌现。我国“十五五”规划明确提出“推进存算一体、三维集成、光电融合等技术突破应用”。这是新《条例》最具前瞻性的变化，为新型芯片的版图保护提供了明确的法规依据。
变化二：新增独创性声明制度
新《条例》新增 “独创性声明” 要求，申请材料中须包含独创性声明，声明应指明具有独创性的设计区域、设计要点及相应功能。
独创性声明制度将抽象的“独创性”判断要件转化为可审查、可举证的书面文件。在维权环节，可有效降低与权利保护范围确定相关的举证与鉴定成本，显著提高侵权纠纷处理效率。
变化三：引入1-5倍惩罚性赔偿
新《条例》明确：故意侵犯布图设计专有权、情节严重的，可以在按实际损失、侵权获利或许可费倍数确定的基础上，再按1倍到5倍确定赔偿数额。
这一条几乎对齐了2020年专利法修订时引入的惩罚性赔偿力度。对芯片企业来说，以前布图侵权可能是可以“扛”的成本，现在可能不能扛了。
变化四：强化诚实信用原则
新《条例》第九条明确：申请布图设计登记和行使专有权应当遵循诚实信用原则，不得滥用权利损害国家利益、社会公共利益或者他人合法权益；滥用专有权构成垄断行为的，依照《反垄断法》处理。
变化五：登记程序全面优化
新《条例》规定登记申请应当以真实创作活动为基础，不得弄虚作假；明确申请登记的布图设计明显不符合规定的应当驳回；登记获准后任何人可请求撤销；因不可抗拒事由导致权利丧失的，可请求恢复权利。
变化六：促进布图设计运用
新《条例》规定法人或非法人组织主持创作布图设计，应当对符合条件的人员给予合理的奖励和报酬；完善转让、许可、出质要求；规定共有人对权利的行使规则。
三、布图设计登记的四大核心价值
价值一：芯片企业的“核心技术壁垒”
集成电路布图设计登记证书属于国家Ⅰ类知识产权，与发明专利享有同等法律地位。登记后可为企业构筑核心技术壁垒、提升市场竞争力，是企业长远发展的坚实基础。
价值二：高企认定的“高权重筹码”
在高新技术企业认定中，集成电路布图设计专有权属于Ⅰ类知识产权。1项及以上Ⅰ类知识产权在数量评价项可获得7-8分，是知识产权模块的高分核心支撑。
尤其值得关注的是，Ⅰ类知识产权可重复用于多轮高企认定（有效期内），是知识产权布局中性价比最高的选择之一。
价值三：首次商用后2年内的宽限期
布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但自创作完成之日起满15年不再保护。
关键提醒：首次商业利用之日起2年内申请登记的宽限期。企业应系统保存首次销售合同、发票、海关出口报关单等证明首次商业利用时间的证据材料。最高人民法院在（2025）最高法知民终452号判决中明确，已获登记但实质不符合法定登记条件的布图设计，不应在侵权诉讼中获得保护。
四、专业服务——为什么选择我们？
集成电路布图设计保护涉及独创性声明撰写、图样规范编制、申请材料准备、首次商业利用时间举证、侵权维权等多个专业环节。新《条例》对独创性声明和图样质量提出了更高要求，很多芯片设计企业具备优秀的技术成果，却因不了解登记制度、独创性声明撰写不规范、图样不符合要求、错过2年宽限期，白白错失布图设计专有权保护。
我们能为您提供全流程一站式服务：
布图设计登记评估——快速判断企业布图设计是否符合登记条件，评估独创性边界
独创性声明撰写辅导——按新《条例》要求，协助撰写规范、准确的独创性声明
图样规范编制辅导——协助准备总图和分层图，确保图样清晰、编号规范、满足审查要求
首次商业利用时间举证辅导——协助整理首次销售合同、发票、报关单等证据材料，确保在2年宽限期内完成登记
高企知识产权布局规划——将布图设计登记纳入企业Ⅰ类知识产权布局，助力高企认定
侵权维权支持——发生侵权行为时，协助收集证据、评估维权策略，依法追究侵权人责任
全程跟进登记——从材料准备到系统提交、从受理审查到登记证书获取，专业团队全程保驾护航
本文仅供参考，具体规定以《集成电路布图设计保护条例》（2026年修订）及国家知识产权局官方文件为准。
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